Apèsi sou pwodwi a
Ki fèt pou aplikasyon endistriyèl kritik, sistèm osmoz inverse de-etap sa a reyalize pite ekstrèm iyonik ak òganik lè li voye premye-pase pèmeyatè dirèkteman nan yon etalaj manbràn dezyèm-etap, sa ki redui total solid ki fonn, silica, ak tras konpoze nan nivo minimòm pandan y ap pwoteje ekipman polisaj aval kont fatig twò bonè.
Espesifikasyon teknik kle
|
Paramèt |
Ranje operasyonèl |
|
Permeate konduktiviti |
Mwens pase 2.0 uS / cm nan 25 degre |
|
Sistèm Recovery |
75% a 85% |
|
Rejè silica |
Pi gran pase 99.9% |
|
Fonksyone presyon |
1.2 MPa a 2.5 MPa |
|
Kapasite Design |
5 m³ / h a 100 m³ / h |
Separasyon Workflow
Filtrasyon prensipal:Dlo manje presyon pase nan premye eleman konpoze polyamid pou retire mineral esansyèl ak òganik sispann.
Ajisteman pH entè-etap:Dòz soda kastik ogmante pH prensipal la perméat ant 8.5 ak 9.0 pou ionize asid fèb ak bor.
Polisaj segondè:Kouran ajiste a antre nan eleman segondè presyon segondè-pou kaptire tras kontaminan ki rete yo.
Rekiperasyon enèji:Konsantre presyon ki soti nan etap prensipal la bay inite rekiperasyon izobarik pou diminye konsomasyon pouvwa an jeneral.
Konfigirasyon mekanik
Ponp -wo presyon:Vètikal plizyè etap santrifujeur inite nan asye pur 316L kondwi pa motè VFD.
Veso presyon:ASME-kazin asye pur ki konfòm nan konfigirasyon estanda milti-etap.
Sousistèm chimik:Patin piki otomatik pou anti-skalant, bisulfit sodyòm, ak soda mordan.
Inite Enstrimantasyon:Detèktè Inline swiv presyon, koule, konduktivite, ak pH atravè tou de pas yo.
Paramèt Dlo Manje
Endèks dansite limon:SDI15 mwens pase 3.0 mezire nan inlet sistèm.
Klò gratis:Mwens pase 0.1 mg / L pou anpeche oksidasyon manbràn.
Limit turbidité:Kenbe anba a 1.0 NTU atravè medya en.
Iron ak Manganèz:Limite anba 0.05 mg / L pou fè pou evite fouling katalitik.
En Polisaj Pwoteksyon
Rediksyon chaj ionik:Gout dlo kri TDS soti nan 500 mg / L desann nan mwens pase 2 mg / L k ap antre nan pasan polisaj.
Kontwòl silica:Limite silica reyaktif a mwens pase 10 ppb, anpeche glisman silica sou kabann résine.
Rediksyon òganik:Reyalize yon rediksyon 90% nan TOC, bese fado a sou reyaktè UV en.
Lonjevite résine:Pwolonje fennèt operasyonèl EDI en ak kolòn kabann melanje-pa plis pase 300%.
Entegrasyon dlo ultrapur
Defans -Baryè:Li bay separasyon fizik absoli nan mikwo-òganis, patikil, ak mineral ki fonn.
Prevansyon Eskalad:Bann iyon divalan nèt pou elimine dekale tèmik sou ekipman en.
Estabilite rezistans:Estabilize konduktiviti manje an sekirite pwodiksyon 18.2 MOhm-cm nan egzeyat bouk.
Redondans operasyonèl:Manifoul anklanche yo pèmèt netwaye chimik izole nan pas endividyèl san yo pa fèmen plant yo.
Aplikasyon endistriyèl
Semiconductor fabrikasyon:Apwovizyone gwo-dlo makiyaj pite pou netwaye wafer ak pwosesis CMP.
Faktori famasetik:Pretretman pou dlo pirifye ak dlo pou bouk jenerasyon piki.
Jenerasyon pouvwa:Pwodui dlo mineralize ultra-pou chodyè sèvis piblik segondè-presyon.
Espesyalite Chimik Sentèz:Bay dlo ki gen pite -pou pwodiksyon chimik elektwonik.
Kritè Seleksyon Sistèm
Analiz Chimi Dlo:Antre paramèt dlo kri konplè pou detèmine pousantaj koule manbràn egzak.
Kalkil demann koule:Etabli kondisyon pik kontinyèl ak itilizasyon mwayèn chak jou pou gwosè motè ponp yo.
Evalyasyon espas:Evalye dimansyon anprint glise, clearance vètikal, ak aksè nan wout tiyo.
Verifikasyon sèvis piblik:Konfime vòltaj ekipman elektrik, presyon lè enstriman, ak kapasite drenaj.
Personnalisation Jeni
Materyèl mouye:Amelyore kanalizasyon nan sanitè 316L ak entèn elektwo-polisaj (Ra mwens pase 0.4 um) ak soude òbital.
Seleksyon manbràn:Chwazi eleman ki reziste -fouling pou dlo lou òganik-oswa eleman rejè segondè-pou limit ekstrèm bor.
Kalite patiraj:Skid-monte sou asye estriktirèl, nan veso yo nan bwat asye ISO, oswa bati nan patiraj sal pwòp.
Platfòm kontwòl:Entegre PLC Siemens oswa Allen-Bradley ki sipòte pwotokòl kominikasyon Modbus TCP oswa Ethernet/IP.
Pwotokòl Asirans Kalite
Tès presyon:Chak veso ak manifoul sibi tès idrostatik nan 1.5 fwa presyon konsepsyon.
Verifikasyon soude:Tout soude asye pur resevwa enspeksyon vizyèl ansanm ak chèk selektif boroskopik oswa X-.
Tès Akseptasyon faktori:Konplete chèk kontinwite elektrik ak aliyman ponp seche-egzekisyon anvan mete bwat.
Dosye trasabilite:Rapò tès materyèl yo bay pou tout pati metalik mouye ak kalibrasyon enstriman.
Kesyon yo poze souvan
Baj popilè: doub pas sistèm ro pou ultrapure dlo pretreatment, Lachin doub pas ro sistèm pou ultrapure dlo pretreatment manifaktirè yo, ke founisè

